本文由半導體產(chǎn)業(yè)縱橫（ID：ICVIEWS）綜合

2025年光刻材料收入預計增長7%。

研究機構(gòu)TECHCET最新預測顯示，受半導體市場復蘇推動，2025年光刻材料收入預計增長7%，達到50.6億美元。

據(jù)悉，這一增長主要由先進光刻膠需求大幅增長驅(qū)動，特別是EUV光刻膠預計同比增長30%。隨著芯片產(chǎn)量增長，尤其是邏輯芯片和DRAM芯片領(lǐng)域先進節(jié)點器件產(chǎn)量提升，輔助材料和擴展材料也將呈現(xiàn)強勁增長態(tài)勢。

TECHCET數(shù)據(jù)顯示，2024年光刻材料收入溫和增長1.6%，達到47.4億美元。其中光刻膠增長1%，EUV光刻膠表現(xiàn)最為突出，同比增長20%。輔助材料和擴展材料均表現(xiàn)良好，分別增長2%。當前市場受益于先進節(jié)點工藝發(fā)展帶來的光刻膠需求穩(wěn)步增長，特別是EUV光刻膠，同時KrF和ArF等傳統(tǒng)光刻膠在3D NAND中的應(yīng)用增加也促進了市場積極表現(xiàn)。

根據(jù)TECHCET的《2025年光刻材料關(guān)鍵材料報告》，預計到2029年，光刻材料市場將以6%的復合年增長率增長。未來市場發(fā)展將受到供應(yīng)鏈本地化趨勢影響，美國、韓國、中國臺灣和大陸都將建設(shè)新設(shè)施。這些設(shè)施將致力于開發(fā)干法光刻膠沉積和納米壓印光刻等創(chuàng)新技術(shù)，以進一步提升光刻材料的性能和降低成本。

中國的光刻材料市場

中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國半導體材料行業(yè)市場現(xiàn)狀調(diào)研及發(fā)展趨勢預測研究報告》顯示，中國半導體關(guān)鍵材料市場規(guī)模從2020年的755.8億元增長至2024年的1437.8億元，年均復合增長率達17.44%，2025年中國半導體關(guān)鍵材料市場規(guī)模將達到1740.8億元。

在制造材料中，硅片、光刻材料、掩模板、電子特氣占比較高。以2023年為例，硅片市場在晶圓制造材料市場中占比為33.1%，位列第1位，光刻材料、掩模板、電子特氣分別位列第2、3、4位，占比分別為15.3%，13.2%，13.2%。

其中，光刻膠是光刻工藝中最主要的、最關(guān)鍵的材料，被譽為電子化學品產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”。光刻膠在芯片制造材料成本中的占比高達12%，也是繼大硅片、電子氣體之后第三大IC制造材料。根據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的報告，2024年我國光刻膠市場規(guī)模約為80.5億元，同比增長25.39%，預計2025年我國光刻膠市場規(guī)模可達97.8億元。

目前半導體光刻膠市場90%被海外廠商掌控，頭部廠商包括日本JSR、TOK、住友化學、信越化學、富士材料及美國陶氏化學等。其中，日本JSR 是全球最大、技術(shù)最領(lǐng)先的光刻膠龍頭企業(yè)，其ArF高端光刻膠市場占有率全球第一，也是唯一有能力量產(chǎn)EUV光刻膠的企業(yè)，日本TOK光刻膠是全球最大的G線/I線、KrF光刻膠供應(yīng)商。

再觀中國市場，前瞻產(chǎn)業(yè)研究院數(shù)據(jù)顯示，目前從事半導體用光刻膠研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的企業(yè)則多以I線、G線光刻膠生產(chǎn)為主，2021年國內(nèi)G線、I線光刻膠國產(chǎn)化率已達10%，KrF以上的高端光刻膠品種基本處于研發(fā)狀態(tài)，國產(chǎn)化率僅為1%。

美國擬加征光刻膠關(guān)稅

近日，有消息稱美國針對日系高階材料擬增征進口關(guān)稅。報告研究指出，若美國對來自日本的EUV與ArF光刻膠課征10～25%關(guān)稅，將導致進口價格上漲10～24%，以目前EUV光刻膠報價每加侖1500美元計算，一旦課稅25%，最終成本將增加近400美元。

研究報告指出，全球光刻膠市場正進入結(jié)構(gòu)性增長階段，2025年市場產(chǎn)值接近65～70億美元，占全球半導體材料約8～10%，其中相當于2nm和3nm制程的EUV光刻膠，年復合增長率高達35%，遠超過其他ArF、KrF等成熟產(chǎn)品的4～5%。

由于EUV光刻膠具備高技術(shù)導向與使用環(huán)境極為嚴格的要求，無法輕易替代，即使關(guān)稅阻礙成本攀升，包括臺積電、英特爾、三星等先進晶圓制造商仍需依賴日系供應(yīng)商的安全出貨，才能確保先進制造進度的良率與量產(chǎn)進度。目前面臨著「被迫接受高成本」的現(xiàn)實困境。

此外，隨著臺積電在美國建廠擴產(chǎn)，至2027年，美國2nm制程產(chǎn)能占全球比重預期將大幅提高到21%，勢必會推動美國光阻消費由非主力市場轉(zhuǎn)為戰(zhàn)略重點市場。若關(guān)稅制度加強，不排除日系大廠會赴美設(shè)廠擴產(chǎn)的可能。

值得一提的是，EUV光阻技術(shù)因驗證期長、量產(chǎn)入口高，市場長期被JSR、東京應(yīng)化、信越化學三大日廠壟斷，市占率超過九成。美系大廠如杜邦與陶氏雖然現(xiàn)在ArF、KrF保有市占，但在EUV該領(lǐng)域幾乎無法與日廠抗衡。

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